アスマ確認:インテルに初の高開口率極紫外リソグラフィシステムを納入
了看允侥
发表于 2023-12-22 09:40:31
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【アスマ確認:初の高開口率極紫外リソグラフィシステムをインテルに納入】オランダの半導体デバイス製造大手アスマは12月21日、ソーシャルメディアプラットフォームXで、初の高開口率極紫外(EUV)リソグラフィシステムをインテルに納入することを確認した。1台あたりの設備費は3億ドルを超え、第一線のチップメーカーの需要を満たすことができ、今後10年間でより小さく、より良いチップを製造することができる。
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声明:该文观点仅代表作者本人,本文不代表CandyLake.com立场,且不构成建议,请谨慎对待。
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