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フォトリソグラフィー大手、緊急声明
フォトリソグラフィー大手アスマ（ASML）の公式サイトが9月6日に発表した声明によると、オランダ政府は同日、浸漬型DUV半導体装置の輸出に関する最新のライセンス要求を発表した。この要求は2024年9月7日に発効し ... -
アスマ確認：インテルに初の高開口率極紫外リソグラフィシステムを納入
【アスマ確認：初の高開口率極紫外リソグラフィシステムをインテルに納入】オランダの半導体デバイス製造大手アスマは12月21日、ソーシャルメディアプラットフォームXで、初の高開口率極紫外（EUV）リソグラフィシ ... -
アスマとSKハイニックスはEUVリソグラフィ機の水素回収技術の開発で協力する予定
【アスマとSKハイニックスはEUVフォトリソグラフィによる水素回収技術の開発で協力する予定】韓国産業通商資源部は12月13日、オランダに本社を置くアスマ社（ASML）が韓国のチップメーカーとの業務提携を拡大する計 ...