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阿斯麦回应:荷兰政府管制并非针对所有浸润式DUV系统

善平
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  荷兰政府于6月30日颁布了有关半导体设备出口管制的新条例。荷兰光刻机巨头阿斯麦公司(ASML)在给南方财经全媒体记者的声明中表示,这些新的出口管制条例针对对象为先进的芯片制造技术,包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统,并非所有浸润式DUV光刻系统。

  阿斯麦称,荷兰政府于6月30日颁布了有关半导体设备出口管制的新条例,正如其在今年三月发布的消息中所述,这些新的出口管制条例针对对象为先进的芯片制造技术,包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。
  “需要重点指出的是,荷兰政府新颁布的出口管制条例只涉及TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的浸润式系统。 此外,阿斯麦长期展望的基础是全球的长期需求和技术趋势。”
  TWINSCAN NXT:2000i是当前阿斯麦最先进的浸润式DUV系统。根据新出口管制条例规定,阿斯麦需要向荷兰政府申请出口许可证才能发运此型号机器及后续推出的浸润式光刻系统。荷兰政府将决定是否授予或拒发出口许可证,并将向阿斯麦提供许可证所附条件的细节。
  目前,阿斯麦的EUV光刻系统已经受到限制。阿斯麦将继续遵守适用的出口管制条例,其中包括荷兰、欧盟及美国的出口管制条例。
  荷兰政府新颁布的出口管制条例将于2023年9月1日生效,在此日期前,阿斯麦可开始提交出口许可证申请。荷兰政府将视具体情况批准或拒绝这些申请。
  “基于今日的公告,我们认为这些管制条例不会对已发布的2023年财务展望以及于2022年11月投资者日宣布的长期展望产生重大影响。”阿斯麦发言人表示。
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